Flenex FW

Avec Flenex FW, les développeuses Fujifilm lavables à l’eau délivrent des performances optimales. Les systèmes de développement de plaques C-Touch MK2 et SB938 assurent un développement tout-en-un hautes performances pour vos plaques lavables à l’eau Flenex, et offrent une durée de vie prolongée du bain ainsi qu’une manipulation efficace des plaques. Disponibles pour les entreprises de toutes tailles et faciles à installer, pourquoi ne pas internaliser l’ensemble du processus de production, avec le soutien de Fujifilm pour vous assister si besoin.

Dernier ajout à la gamme de Fujifilm, le système de filtration d’eau est spécialement conçu pour prolonger la durée de vie du bain des développeuses SB938 et C-Touch MK2, et réduire le volume d’eau nécessaire. Ce système maintient la développeuse plus propre et espace les nettoyages, réduisant ainsi les coûts de maintenance et optimisant vos performances environnementales.

Les plaques lavables à l’eau Flenex FW assurent des temps de gravure inférieurs à 40 minutes. C’est 3 fois plus rapide que les systèmes à solvants leaders et 1,5 fois plus rapide que les technologies thermiques et lavables à l’eau actuelles. Une gravure plus rapide des plaques signifie aussi plus de disponibilité de la presse et un nombre accru de travaux par équipe, ce qui vous permet de réaffecter la main-d’œuvre ainsi économisée à des tâches à plus forte valeur ajoutée. Parmi les avantages:

• Augmentation du nombre de plaques produites
• Hausse de qualité
• Délai d’exécution plus rapide des travaux
• Optimisation de la presse
• Coûts de main-d’œuvre réduits ou réaffectation du personnel
• Gravure plus respectueuse de l’environnement

Le système de plaque lavable à l’eau Flenex FW ne se contente pas d’éliminer le recours aux solvants et tissus mèche. Il permet de réaliser de longs tirages avec une linéature constante de 200 lpi à 4400 ppp et une structure de point allant jusqu’à 1 %, d’où une impression de haute qualité selon les conditions.

Structure de point à sommet plat
Le composé à base de caoutchouc permet d’obtenir un point à sommet plat allant jusqu’à 1 % sans système complexe d’élimination de l’oxygène. L’engraissement s’en trouve réduit. En outre, le meilleur transfert de l’encre produit des résultats imprimés nettement plus propres et plus éclatants.

Les plaques photopolymères Flenex FW sont dotées d’un composé spécial à base de caoutchouc qui offre de nombreux avantages par rapport aux autres matériaux élastomères contenus dans la plupart des autres plaques flexo. Le caoutchouc n’étant pas sensible à l’oxygène, celui contenu dans l’air n’affecte en rien la forme du point. Cela évite également le recours à un système complexe d’élimination de l’oxygène dans le processus de production des plaques. Les autres avantages d’une plaque à base de caoutchouc sont les suivants :

• Réduction de l’engraissement
• Meilleur transfert de l’encre pour des impressions plus nettes et plus éclatantes
• Temps d’exposition et de lavage plus courts
• Procédé plus écologique
• Lavage doux à l’eau et au détergent pour lave-vaisselle
• Réduction du gonflement des plaques